中国造EUV光刻机还要15年？蔡司高管：制裁反而加速追赶

ASML EUV光刻机光学元件独家供应商、德国蔡司集团半导体事业负责人Frank Rohmund近日在接受采访时，谈到了对中国EUV光刻机研发进度的判断。他表示，中国要开发出自己的EUV光刻机大约还需要15年，并称这是一个合理的推测，同时也坦言，中国在这方面的实际进展其实难以量化。

ASML目前是全球唯一能制造EUV光刻机的企业，而EUV技术是生产英伟达AI加速器等最先进芯片不可或缺的关键技术。技术本身越重要，掌握技术的话语权就越大。美国正是利用这一优势，将其转化为对华芯片产业的压制工具，已禁止ASML向中国出口EUV设备和部分先进的浸润式DUV光刻机，美国国会议员还在持续推动将出口管制扩展至所有DUV光刻机。

对于美国这些出口管制措施，Rohmund明确表达了不同看法。他直言，若管制未来进一步扩大至传统DUV设备，将对产业造成不利影响，并强调：“我们不相信这些出口管制会带来正面效果，因为这反而会加速中国的创新。” 说白了，制裁压力反而会逼着中国研发团队拼命追赶，某种意义上是在把对手逼上技术狂奔的道路。

这一判断与ASML CEO富凯此前的表态如出一辙 —— 收紧对华出口管制，反而会加速中国自主研发替代设备的步伐。从产业逻辑来看，外部封锁往往会倒逼技术突破，蔡司方面也承认中国在这一领域已投入相关技术研发数十年，因此近期有所进展并不令人意外。

不过Rohmund同时强调，现在仍需观察这些设备实际究竟有多大的能力，因为蔡司方面目前仍遥遥领先。蔡司是全球约80%芯片所使用的光学元件的供应商，ASML于2017年以10亿欧元收购了蔡司半导体事业的少数股权。一边是技术垄断方的自信，一边是封锁倒逼下的追赶，这场围绕光刻机的博弈，注定还将持续很长一段时间。