蔡司高管称中国EUV光刻机研发需15年 蔡司仍领先

观点网讯：2026年9月3日，德国蔡司半导体部门负责人Frank Rohmund表示，中国在尖端芯片制造设备的研发方面落后约15年，并认为中国需要15年才能研发出极紫外（EUV）光刻机是“合理的假设”。

Frank Rohmund指出，中国的进步很难量化，北京方面数十年来一直在研发这类技术。对于近期有关中国取得技术进展的报道，他表示并不令人意外，现在需要观察的是这些设备的实际能力究竟如何。他补充称：“我们仍然遥遥领先”。

蔡司是ASML EUV光刻机光学系统的独家供应商。美国禁止ASML向中国出口最先进设备，北京则向国内半导体产业投入巨资，力求自给自足。此前，瑞银分析师曾指出，中国距离开发出国产EUV技术至少还有10年。

7月时，一家上海国资背景企业计划今年生产约5部光刻机，向中芯国际、华虹半导体及长鑫科技等内地晶圆厂交付，明年产量目标增至约20部。相关企业为上海爱晟纳电子科技集团，目前国产DUV光刻机仍处于测试及验证阶段，各方面性能与ASML光刻机仍存在明显差距。

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