国产第三代半导体光刻机批量交付！

8月10日消息，国产光刻设备赛道传来重磅利好突破。上海芯上微装科技股份有限公司正式对外宣布，近日公司自主研发的350nm步进投影光刻机（AST6200），已经顺利通过国内化合物半导体领域头部客户的全流程工艺验证，并且拿到了批量重复采购订单，正式从研发落地阶段走向商业化批量交付。

官网内容如下：

近日，我公司自主研发的350nm步进投影光刻机（AST6200）凭借卓越性能与稳定表现，快速顺利通过国内化合物半导体领域头部客户的工艺验证，并斩获批量重复订单。

AST6200光刻机可广泛应用于功率器件、射频前端、光电子芯片及Micro LED新型显示等制程场景。设备在关键工艺效果、工艺适应性与软件自主化方面均展现出核心优势：

关键工艺效果

AST6200光刻机搭载高性能投影物镜与先进照明模式，稳定实现350nm高分辨率精细图案化能力，全面满足Si、SiC、GaN、GaAs、InP、蓝宝石等多种衬底材料的光刻需求。其高精度对准系统确保多层图形之间精准套刻，显著提升器件良率。同时，通过采用高照度光源、高速基底传输系统及高动态运动台，显著提升单位时间产出，有效帮助客户降低单颗芯片的综合拥有成本（COO）。

强大工艺适应性

AST6200光刻机创新调焦调平系统能够稳定测量透明、半透明、不透明及大台阶等多种基底，确保复杂衬底条件下的曝光质量。平边对准和背面对准模块的加入，可满足特殊基底晶向解理和键合片对位等复杂制程需求。设备支持从2英寸到8英寸多种规格基片，兼容平边、双平边、Notch等主流基底类型，真正实现“一机多用”，为客户产线切换带来极大灵活性。

全栈自主的软件控制系统

AST6200光刻机搭载芯上微装自主研发的全栈式软件控制系统，从底层驱动到上层工艺管理实现100%自主可控。该系统具备强大的工艺扩展能力与远程运维功能，能够持续为设备全生命周期赋能，助力客户实现智能化、高效率的产线运营。

从首台AST6200光刻机交付到实现批量复购，不仅表明产品开发与产业实际需求相契合，也标志着设备的核心性能与稳定性经受住了市场的检验。

很多人第一时间会把这台设备和传统硅基芯片的先进制程光刻对标竞争，但实际上它的研发定位完全不同，是专门针对碳化硅、砷化镓等化合物第三代半导体生产场景量身定制的产品，主要服务下游新能源汽车、5G通信、光电子等高增长热门产业，精准踩中了国内第三代半导体产业快速扩张的刚需缺口。

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